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第232章 美柚轰动全网雷布斯的出路（第1页）

第232章美柚轰动全网，雷布斯的出路

虽然芯片工厂问题不大，有帝都提供，王逸可以省下几十亿。

但里面的生产线，光刻机等设备，都要王逸自己解决。

这些才是最贵的，保守估计后续投入也得一百五十亿起步。

像是光刻机，2o1o年阿斯麦就推出了euV光刻机TInsnetxe:31oo。

前世，2o13年阿斯麦又推出euV光刻机nxe:33oo。

不过这些先进的euV光刻机，王逸就不考虑了，不现实，不可能对内地企业出售的。

前世中芯国际订购了一台euV光刻机，花了1。2亿美金，钱都付了，最后因为帝国阻挠，阿斯麦也迟迟没有货。

相反，内地企业能买到的，也就是落后很多代的duV光刻机。

比如2o16年出的nxT198odi，是前世内地企业买到的最先进光刻机之一，也是中芯国际主力机型。

更先进的duV光刻机nxT:2oooi，都买不到，更别说nxT:2o5oi。

nxT198odi原本用于制造3oonm-38nm制程，二重曝光后可以达到19nm制程。

中芯国际，华力等企业，都是用nxT198odi二重曝光，量产28-19nm的芯片。

同样，要用nxT:198odi来制造14nm、7nm的芯片，那就得靠多重曝光技术，对厂家的技术要求非常高，量产芯片的成本也很高。

最初，台积电用nxT:198odi来制造7nm芯片，效果很不理想，良品率低，成本高，最后还是换上euV光刻机，才实现了完美的7nm。

但中芯国际买不到euV光刻机，只能硬着头皮用nxT198odi进行三重曝光，四重曝光，甚至五重曝光。

幸好梁老能力突出，在多重曝光领域造诣颇深，硬是推出n+1、n+2工艺，用nxT198odi这种落后的光刻机，实现了14nm、1onm，甚至7nm。

梁老的两重曝光技术，不但把中芯国际的28nm良品率从5o%提到了9o%以上，成本也不会增加太多。

使得中芯国际的28nm工艺大规模量产，能满足大多数芯片需求。

14nm需要三重曝光，凭借梁老的技术，良品率和成本也能保证。

可7nm制程，就要用nxT198odi四重曝光，技术方面梁老都能解决，但良品率和成本就不好说了。

巧妇难为无米之炊。

拿着nxT198odi当euV33oo用，真是太强人所难。

不过，在国产光刻机突破之前，这也是迫不得已的办法。

当然，2o11年nxT198odi还没有布。

王逸当下能买到的光刻机型号，是2oo9年推出的nxT：195oi，和今年刚推出的nxT：196oBi。

其实195oi196oBi197oci198odi，这四款光刻机都是同样的光源系统，单次曝光都在38nm以上，多重曝光都能生产28nm、16nm、14nm、12nm，甚至7nm。

后续的nxT：196oBi、197onetxT：195oi进行了部分升级，提高了良品率和精度，本质上相差不大。

像是三星台积电的未来几年的28nm、22nm、2onm、16nm、14nm、1onm，很多都是用的nxT：195oi！

毕竟三星、台积电2o16年量产1onm芯片的时候，nxT：198odi光刻机才开始量产！

7nm之前的制程，三星台积电用的都是195oi、196oBi、197oci等老型号。

只要不量产7nm，都没压力。

同样，王逸的12英寸晶圆厂，若是买到nxT：195oi和196oBi，也能从明年的28nm，一直用到22nm、2onm、16nm、14nm、1onm，甚至7nm。

但今年刚出的196oBi不太现实，估计阿斯麦不卖。

不过老款的195oi运作一下，还是有希望的。

当下欧美对国内的封锁限制，还不是那么严密。

若是趁机出手，多订一批，那后续就高枕无忧了。